簡要描述:Ultra Apex Mill珠磨機采用離心式磨珠分離器應(yīng)對微珠分離,可使用Φ15μm至1 mm的磨珠。當(dāng)使用Φ0.1mm或更小的磨珠進行處理時,能應(yīng)對100nm以下的納米粒子的漿料分散。例如無機化合物,例如陶瓷的原料,電子材料,光學(xué)材料等以及顏料。
Ultra Apex Mill珠磨機采用離心式磨珠分離器應(yīng)對微珠分離,可使用Φ15μm至1 mm的磨珠。當(dāng)使用Φ0.1mm或更小的磨珠進行處理時,能應(yīng)對100nm以下的納米粒子的漿料分散。例如無機化合物,例如陶瓷的原料,電子材料,光學(xué)材料等以及顏料。這是所有珠磨機里面分散能力*的納米粒子分散機。歷經(jīng)20 多年,我們對該機型進行了多次改良。這是將亞微米級分散到納米級顆粒的分散機。并為鈦酸鋇,有機螯合顏料,液晶涂層劑等的納米顆粒加工技術(shù)的做出了貢獻。
除開微米級磨珠,相對較大的Φ0.5至1mm的磨珠也同樣適用于這款機型,因此還可以將各種材料粉碎至從亞微米級到納米級的粒子。這臺機型曾取得過將醫(yī)藥原料API粉碎至200納米以下的粉碎處理的銷售實績。這是利用離心力原理開發(fā)而成的微珠分離器,并榮獲了日本政府的“制造業(yè)大獎"和“科學(xué)技術(shù)發(fā)明獎"。
Ultra Apex Mill珠磨機
特長
1.此機型可應(yīng)對微珠,應(yīng)對亞微米至納米粒子的粉碎分散處理!
可應(yīng)對15μm的超細(xì)磨珠下的分散處理,能將漿液里的微粒細(xì)分散至20nm。同時,UAM具有高分散力的攪拌器結(jié)構(gòu),是具備高效處理能力的分散機。
2.磨珠的切換方法簡單,一臺設(shè)備能應(yīng)對多種不同的漿液處理!
可使用的磨珠范圍十分廣泛,φ15μm~φ1mm的磨珠都可使用。 由于具有離心式的磨珠分離器,因此即使使用不同直徑的磨珠,也無需進行任何機械調(diào)整。僅用一臺設(shè)備即可對多種漿料進行連續(xù)處理、例如可同時進行預(yù)粉碎處理和分散處理。
3.拆卸和組裝的操作簡單,易于回收漿料!
這款立式珠磨機,設(shè)計十分簡單,易于拆卸和組裝。也很容易回收殘留在粉碎機中的漿料。
4.具有良好的清潔性!
對于衛(wèi)生要求相對高的行業(yè)中,例如食品,化妝品和醫(yī)藥等,我們還提供具有完備清潔性的粉碎裝置,為此,我們對死角位置和密封接合處的形狀進行了改善。
結(jié)構(gòu)圖
運行條件
適用珠徑
Φ15μm?Φ1mm
磨珠分離機轉(zhuǎn)速
8m/s?12m/s
應(yīng)用和成品示例
材料 | 應(yīng)用 | 分散的目的 | 可達到的粒徑 (nm) |
有機顏料 | 液晶顏料 | 粉碎, 透明化, 粒度穩(wěn)定 | 15 |
噴墨顏料 | 粉噴墨顏料碎 | 50 | |
氧化鋅 | 紫外線護理化妝品 | 粉碎, 透明化 | 10 |
氧化鋁 | 研磨料, 填料 | 粉碎 | 15 |
塑料硬涂層 | 硬度增強劑 | 10 | |
二氧化硅 | 晶圓研磨劑 | 粉碎, 粒度均質(zhì) | 10 |
高分子復(fù)合材料 | 強度提高, 透明度提高 | 10 | |
ITO,ATO | 透明電極、熱射線吸收膜 | 電導(dǎo)率、透明度提高 | 40 |
防反射涂膜 | |||
電池材質(zhì) | 陰極材料,陽極材料 | 大功率,大容量,高質(zhì)量 | 20~5,000 |
隔膜,導(dǎo)電助劑 | 粉碎 | ||
納米銀 | 遮光材料導(dǎo)電材料 | 遮光性能提高,導(dǎo)電性 | 20~50 |
Ultra Apex Mill的主要規(guī)格
模型 | 內(nèi)部容積 | 驅(qū)動馬達 | 大約外型尺寸 (m) | 大約重量 | ||
長度 | 寬度 | 高度 | ||||
UAM-015 | 0.15 | 2.2 | 0.6 | 0.48 | 0.85 | 100 |
UAM-05 | 0.5 | 3.7 | 1.10 | 0.65 | 1.40 | 200 |
UAM-1 | 1 | 5.5 | 1.10 | 0.80 | 1.75 | 350 |
UAM-2 | 2 | 7.5 | 1.10 | 0.80 | 2.10 | 450 |
UAM-5 | 5 | 15 | 1.25 | 0.80 | 2.10 | 550 |
UAM-10 | 10 | 22 | 1.40 | 0.85 | 2.20 | 700 |
UAM-30 | 30 | 55 | 2.10 | 1.45 | 3.00 | 2700 |