簡要描述:我們的 SemiChem Advanced Process Monitor(SemiChem 在線濃度監(jiān)測儀)是集自動取樣、分析和報告關(guān)鍵過程的定量化學濃度的化學監(jiān)測系統(tǒng)。全面的在線化學監(jiān)測可實時校正漿料成分,從而穩(wěn)定控制工藝生產(chǎn)條件。該系統(tǒng)可提供分類化學濃度數(shù)據(jù)。當立即顯現(xiàn)時,可以快速糾正可能對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負面影響的變化,有助于滿足更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。
SemiChem 在線濃度監(jiān)測儀
Entegris在設(shè)計和生產(chǎn)用于半導(dǎo)體制造工藝中的化學機械平坦化(CMP)漿料和配方清潔化學品的高精度分析儀器的有豐富的經(jīng)驗。我們的技術(shù)旨在確保復(fù)雜混合化學品的精確一致性,并在 CMP和配方清潔工藝中實現(xiàn)高產(chǎn)量。
我們的 SemiChem Advanced Process Monitor (SemiChem 在線濃度監(jiān)測儀)是集自動取樣、分析和報告關(guān)鍵過程的定量化學濃度的化學監(jiān)測系統(tǒng)。全面的在線化學監(jiān)測可實時校正漿料成分,從而穩(wěn)定控制工藝生產(chǎn)條件。該系統(tǒng)可提供分類化學濃度數(shù)據(jù)。當立即顯現(xiàn)時,可以快速糾正可能對產(chǎn)品質(zhì)量產(chǎn)生負面影響的變化,有助于滿足更高產(chǎn)品產(chǎn)量的要求。
應(yīng)用領(lǐng)域
在全球范圍內(nèi),我們安裝了近3000套SemiChem APM系統(tǒng),用于控制金屬 CMP 濃度。它是控制CMP過氧化物的可靠的中心工具,并被證明在微電子環(huán)境中的所有濕化學應(yīng)用中都具有較好的性能,包括:
·銅,鎢,阻擋層和金屬CMP
·制定清潔
·DSP+
·濕法蝕刻,氮化物蝕刻
·平底蝕刻,食人魚蝕刻
·高頻
·廢水
功能與特點
經(jīng)驗證的標準電化學技術(shù) | 提供行業(yè)精確的監(jiān)控,以保證過程化學成分和完整性 |
提供化學濃度數(shù)據(jù),使?jié){料/化學分配系統(tǒng)能夠提供準確的化學濃度 | |
在線的,接近實時檢測的系統(tǒng) | 檢測揮發(fā)性化學物質(zhì)的工藝偏差,防止產(chǎn)品質(zhì)量損壞 |
將實驗室技術(shù)過渡到在線,實現(xiàn)快速準確的在線控制 | |
堅固耐用的工業(yè)設(shè)計 | 維持至少8500小時平均工作時間 |
可經(jīng)受嚴峻的工業(yè)環(huán)境 |
分析方法 | 電位測定法,標準加成法,光度測定法 |
電位測量的準確性* | 顯示值的±0.2% |
標準添加的準確性* | 顯示值的±2.0% |
電位測量精度* | ±0.2%相對誤差 |
標準添加精度* | ±2.0%相對誤差 |
測量時間 | >5分鐘/次(取決于應(yīng)用程序) |
校準間隔 | 啟動時** |
樣品消耗 | <5 mL/次 |
進樣量 | 0.05-5 mL(取決于應(yīng)用) |
進樣溫度 | 最高93°C(200°F) |
耗水量 | <1000 mL/分析 |
樣品進樣/排樣 | <207 kPa(30 psi),0.5 L/min |
1/4" OD擴口接頭,1" FPT安全殼聯(lián)軸器 | |
去離子水 | 138至276 kPa(20至40 psi) |
2.0升/分鐘 | |
外徑 1/4" 擴口接頭 | |
CDA | 414-552 kPa(60-80 psi) |
1/4" 外徑快速接頭 | |
排水 | 工藝:3/4“NPT重力排水管機柜:1/2“NPT重力 |
電源 | 110/220 VAC,50/60 Hz,1/0.5 A現(xiàn)場可切換 |
廢氣 | 外徑1 7/8" @ 17 CFM |
標準功能 | 可選功能 |
·四個4-20 mA模擬輸出 ·八個可編程繼電器 ·以太網(wǎng)和RS232串行 ·彩色觸摸屏 ·單個測量單元 ·綜合試劑儲存 ·單個采樣點 ·一個5 mL數(shù)字滴定管 ·多傳感器輸入 | ·多個采樣點 ·額外的5 mL數(shù)字滴定管 ·附加傳感器 ·安全聯(lián)鎖裝置 ·試劑微量檢測 |
尺寸
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